真空 获得
CXF-200/1402
产品特点
- 节能：无摩擦，避免摩擦热损耗、较其它类型产品能耗降低30％
- 高效：更长的连续工作时间、高气流量和高抽速
- 灵活：紧凑型结构，满足更小的物理空间需求、任意角度安装，适合各种设计需求、丰富扩展功能，满足客户定制化需求
应用领域
科学研究
加速器
碳化硅
晶体晶振
光伏
Low-E玻璃镀膜
ITO镀膜
光学镀膜
装饰镀膜
平板显示
真空炉
电真空
新能源
新材料
真空干燥
低温制冷
薄膜沉积
刻蚀
离子注入
光刻
电子器件
- 技术指标
- 尺寸
- 产品特性
- 配件
- 下载
- 进气口法兰
-
DN200 ISO F（标配） DN200 CF(可选) DN200 LF(可定制)
- 排气口法兰
-
KF40
- 抽速速率（L/s）
-
N2:1400 Ar:1300 He:1100 H2:820
- 压缩比
-
N2:＞1E8 Ar:＞1E8 He:＞1E4 H2:＞1E3
- 极限压强（Pa）
-
1E-7（橡胶密封） 1E-8（金属密封）
- 最大瞬时入口流量（sccm）
-
1200
- 保护气入口法兰（选配）
-
KF10
- 推荐保护气体流量
-
20
- 最大允许磁场强度
-
径向：3 轴向：15
- 额定转速（rpm）
-
33000
- 启动时间（min）
-
≤7
- 停机时间（min）
-
≤9
- 冷却方式
-
水冷
- 冷却水流量（L/min）
-
2
- 推荐冷却水温度（℃）
-
20±5
- 电源电压（V AC）
-
220±10％，50Hz 110±10％，60Hz
- 适配电源型号
-
CXFD-1001
- 建议前级泵
-
≥16
- 重量（kg）
-
51
| 文件名 | 类型 | 语言 | 日期 | 文件大小 |